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脈沖激光沉積鍍膜設備

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超高真空脈沖激光鍍膜設備

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超高真空脈沖激光鍍膜設備

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資質榮譽成功案例

產品描述

參數

該設備為超高真空脈沖激光鍍膜設備，主要用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。

極限真空：2×10^-6Pa

激光靶：4靶位一套，可公轉、自轉

基片尺寸：60mm

基片加熱溫度：0～700℃，可控，控溫精度±1℃

真空室球體內徑：Φ450mm

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