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產品描述
參數
該設備是單腔體高真空磁控設備直徑Φ450×420mm，真空系統由600L/S分子泵、8L/S機械泵和相關閥門組成。配置4套帶擋板的直徑60mm可變換靶頭角度的永磁靶和直徑80mm可加熱800℃，可調速自轉并可改變軌跡公轉的CF200樣品臺一套。另外為保證用戶在線測量離子流密度等需求，配置可上下精確調控并可旋轉的在線測量裝置一套。四支永磁靶可上下移動，變換靶基距，調節范圍距樣品50mm-100mm。
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立式矩形靶磁控濺射設備(四靶位)
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