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          四靶磁控濺射鍍膜設備1

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          四靶磁控濺射鍍膜設備1

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          產品描述
          參數
            該設備是單腔體高真空磁控設備直徑Φ450×420mm,真空系統由600L/S分子泵、8L/S機械泵和相關閥門組成。配置4套帶擋板的直徑60mm可變換靶頭角度的永磁靶和直徑80mm可加熱800℃,可調速自轉并可改變軌跡公轉的CF200樣品臺一套。另外為保證用戶在線測量離子流密度等需求,配置可上下精確調控并可旋轉的在線測量裝置一套。四支永磁靶可上下移動,變換靶基距,調節范圍距樣品50mm-100mm。
           
           
           
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